传统过滤膜的缺点：
1，PTFE热层压过滤膜、PVDF涂层膜
厚，压力损失大，孔隙率低，流量低且不稳定，支撑（无纺）的耐化学性差，有脱落或浸出风险，应用受限。微观结构复杂，批量生产品质差异大，实际工作参数低，不稳定。
2，PVDF、PES、NYLON过滤膜
机械性能低，脆，抗形变能力低，超声波焊接性差，不方便装配。通道的结构复杂，属于深层截留方式，应用受限。
3，受限于制膜技术和成孔工艺，参数和品质不稳定，孔径公差大，无法实现和保证100nm以下的过滤精度和截留正确率。
4, 耐压形变大，只能低压力工作（<0.6MPa）。
UHMW-POF膜特点与替代优势：
* 材质的刚性高，膜厚度可以减薄至50-70um，自支撑性好，不需要无纺和层压。
* 抗张强度高，经向和纬向的强度差异小，等比同步双轴拉伸可形成均匀的微米级或纳米级孔隙，孔和通道的形状规则,微观结构的均匀性和对称性好。
* 孔径公差小，截留正确率高，孔隙率高，压力损失小，相同的工作压力下，流量高，效率高。
* 机械形变小，即使高压力工作，膜身体和孔隙形变小，能保证高截留正确率同时实现更高的流量。
* 耐化学性好，可以适应更复杂和更苛刻的工况。
* 可以超常规条件工作，流量和效率更高，反冲洗恢复好，可重复使用。
* 完全满足半导体行业的30/50/100nm的过滤要求。
* 材质纯净，没有纤维脱落的风险，无浸出，安全。
* 对于常规的过滤膜有明显的替代优势，性价比高。
与其它膜的微观SEM对比：
UHMW-POF单层均质膜(50nm) PES单层均质膜(50nm) PVDF+无纺涂覆膜（150KDa)
